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简介
购买方法：点击“蓝色文字收藏品”或者“可以从“这些卖家”购买” .....................购买说明：此书为绝版图书，售价高于原价作者:（日）吉田文和著；张坤民，周北海译 页数:161 出版社:北京市：中国环境科学出版社 出版日期:1998
目录
目 录
第一章“一种新污染”的产生
——费尔柴尔德事件
第二章硅谷发出警告
2.1高技术污染的“发达地区”
2.2严重的地下水污染
2.3充满危险的硅谷
2.4对工作人员的影响
3.1美国的环境保护运动
第三章为净化污染所采取的行动
3.2政府的行政措施
3.3工业界的相应措施
3.4从硅谷可以学到些什么
第四章半导体工业的实际状况
4.1半导体工业的特点
4.2尖端技术同环境问题之间的关系
4.3半导体工厂的物料平衡
4.4有机溶剂
4.5有机溶剂的问题
4.6氟利昂的问题（CFCs）
4.7有毒气体
4.8砷化镓
4.9高技术污染的经济学问题
第五章日本的高技术污染
5.1 君津市东芝元件工厂的地下水污染
5.2全日本蔓延的地下水污染
5.3东芝公司太子工厂——日本最早确认的高技术污染实例
5.4面对地下水污染危机的熊本
5.5 以半导体工厂排水作为水源的宫崎市
5.6多摩河沿岸的地下水污染
第六章如何保护环境
6.1化学品的法律规定
6.2要求写明全部使用物质的《公害防治协定》——北上市和岩手东芝电子公司
6.3排水闭路循环和控制有毒气体的《公害防治协定》——馆山市和HMB（日铁）半导体公司
6.4高技术污染的防治
后记
参考文献
原书作者简介
译者简介
高技术污染
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