表面化学与多相催化

1．固态化学基础
1.1．缺陷——点、线、面及电子缺陷
1.2．平衡状态下的本征点缺陷数量
1.3．离子活动及自我扩散
1.4．离子电导率
1.5．位错的物理化学性质及其影响
1.6．能带理论
1.7．导体、半导体、绝缘体
1.8．半导体的导电
2．表面结构
2.1．前言
2.2．表面的特殊性质
2.3．表面——二维点阵
2.4．二维结构——清洁表面及吸附了的表面
2.5．一些有趣的表面结构
2.6．表面相变
3．表面热力学
3.1．表面热力学函数
3.2．单组分系统的表面功
3.3．表面自由能Gs与温度的关系
3.4．范德华（vanderWalls）和古根海摩（Guggenheim）
3.5．多组分体系的表面张力——吉布斯吸附方程式（Gibbs AdsorptionIsotherm）
3.6．偏析作用（Segregation）
3.7．表面层——多层模型
3.8．表面组成的经验估计、实验数据及理论的比较
4．半导体化学吸附理论
4.1.界限层理论（BoundaryLayerTheory）
4.2．伏尔根斯坦（Wolkenstein）化学吸附电子理论
4.3．半导体的导电性及吸附物种
5．量子表面键合理论
5.1．导言——表面位与表面态
5.2．清洁表面态——自由或本征表面态
5.3．吸附表面态——外来表面态
5.4．表面键
6．低能电子衍射方法
6.1．导言
6.2．低能电子衍射的装置
6.3．基本衍射理论
6.4．低能电子衍射的各种方法
6.5．衍射图谱的其它特性
7．电子能谱学——紫外光电子能谱学及X－光电子能谱学
7.1．基本原理
7.2．结合能
7.3．“额外”峰的来源
7.4．跃迁几率
7.5．取样深度——非弹性平均自由程λe(E)
7.6．UPS和XPS的特征
7.7．实验方法
7.8．定量分析
7.9．UPS谱数据演释
7.10．XPS谱数据演释
7.11．UPS及XPS应用实例
8．俄歇电子能谱学（AugerElectronSpectroscopy,AES）
8.1．俄歇电子，俄歇电子能量
8.2．俄歇实验方法与俄歇信号
8.3．俄歇数据的演释
8.4．俄歇能谱学在吸附及多相催化领域中的应用
9．外延X射线吸收光谱精细结构（ExtendedX-rayAbsorptionFineStructure,EXAFS）
9.1．EXAFS的基础
9.2．EXAFS数据分析
9.3．EXAFS实验
9.4．EXAFS的应用
参考书籍与文献