Transparent conductive oxide films

　　第一章 透明导电薄膜概述
　　 1.1 概述
　　 1.2 透明导电薄膜的分类
　　 1.3 透明导电薄膜的基本特性
　　 1.3.1 透明导电金属薄膜
　　 1.3.2 透明导电氧化物薄膜
　　 1.4 透明导电氧化物薄膜的研究现状
　　 1.4.1 SnO2薄膜及其掺杂体系
　　 1.4.2 Cd2SnO4薄膜体系
　　 1.4.3 In2O3薄膜及其掺杂体系
　　 1.4.4 ZnO薄膜及其掺杂体系
　　 1.5 透明导电氧化物薄膜的应用
　　 1.5.1 ITO薄膜的主要应用
　　 1.5.2 ZnO薄膜的主要应用
　　 1.5.3 透明导电薄膜的其他应用
　　 参考文献
　　第二章 透明导电氧化物薄膜的制备技术
　　 2.1 概述
　　 2.2 真空蒸发镀膜
　　 2.2.1 真空蒸发镀膜原理
　　 2.2.2 真空蒸发的方式和设备
　　 2.3 溅射镀膜
　　 2.3.1 概述
　　 2.3.2 溅射镀膜原理
　　 2.3.3 溅射镀膜的特点
　　 2.3.4 溅射镀膜装置
　　 2.3.5 磁控溅射沉积ITO薄膜
　　 2.3.6 ITO镀膜生产实例
　　 2.3.7 磁控溅射沉积ZnO薄膜
　　 2.4 化学气相沉积
　　 2.4.1 化学气相沉积的原理
　　 2.4.2 化学气相沉积的分类与特点
　　 2.4.3 化学气相沉积ITO薄膜工艺
　　 2.4.4 化学气相沉积的ZnO薄膜制备工艺
　　 2.5 其他化学沉积方法
　　 2.5.1 溶胶-凝胶法制备透明导电薄膜
　　 2.5.2 喷涂热分解法制备透明导电薄膜
　　 2.6 透明导电薄膜制备技术的比较
　　 2.6.1 不同技术沉积的ITO薄膜的性能比较
　　 2.6.2 不同技术沉积的ZnO薄膜的性能比较
　　 2.6.3 其他透明导电薄膜的制备技术
　　 参考文献
　　第三章 薄膜的分析和性能检测技术
　　 3.1 概述
　　 3.2 薄膜形貌分析
　　 3.2.1 扫描电子显微镜
　　 3.2.2 透射电子显微镜
　　 3.2.3 扫描探针显微镜
　　 3.3薄 膜相结构分析
　　 3.3.1 X射线衍射
　　
　　 3.3.2 电子衍射
　　 3.4 薄膜成分分析
　　 3.4.1 概述
　　 3.4.2 电子探针X射线显微分析
　　 3.4.3 电子能谱分析
　　 3.4.4 二次离子质谱(SIMS)
　　 3.5 表面电子态分析
　　 3.6 表面原子态分析
　　 3.7 薄膜厚度测量
　　 3.7.1 薄膜厚度的概念
　　 3.7.2 薄膜厚度的测量方法
　　 3.8 薄膜电学性能测量
　　 3.8.1 四点探针法
　　 3.8.2 霍尔效应
　　 3.9 薄膜光学性能测量
　　 3.9.1 透射率和反射率测量
　　 3.9.2 椭圆偏振测量技术
　　 参考文献
　　第四章 透明导电薄膜的结构特性
　　 4.1 概述
　　 4.2 ITO薄膜的结构特性
　　 4.2.1 ITO薄膜的相结构
　　 4.2.2 ITO薄膜的成分分布及化学态
　　 4.2.3 ITO薄膜的组织形貌
　　 4.3 ZnO：Al薄膜的结构特性
　　 4.3.1 ZnO薄膜的相结构
　　 4.3.2 ZnO薄膜的晶体生长模式
　　 4.3.3 ZnO薄膜的成分分布及化学态
　　 4.3.4 ZnO薄膜的能带结构及表面功函数
　　 参考文献
　　第五章 透明导电薄膜的电学性能
　　 5.1 概述
　　 5.2 半导体薄膜中的电荷输运现象
　　 5.2.1 单晶半导体材料中的电传导
　　 5.2.2 多晶材料中的电传导
　　 5.2.3 非晶材料中的传导机制
　　 5.3 未掺杂透明导电薄膜的电学性能
　　 5.3.1 沉积工艺参数的影响
　　 5.3.2 薄膜厚度的影响
　　 5.3.3 沉积后退火处理的影响
　　 5.4 掺杂透明导电膜的电学性能
　　 5.4.1 掺杂量的影响
　　 5.4.2 沉积工艺参数的影响
　　 5.4.3 沉积后退火处理的影响
　　 5.5 透明导电薄膜导电机制的实验研究
　　 5.6 透明导电氧化物薄膜电学性能的几个值得关注的问题
　　 参考文献
　　第六章 透明导电薄膜的光学性能
　　 6.1 概述
　　 6.2 ……