Introduction to surface analysis by XPS and AES
副标题：无
作 者：(英)John F. Watts，(英)John Wolstenholme原著;吴正龙译
分类号：
ISBN：9787562822264
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简介
本书讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积。XPS（SAXPS）、成像XPS、XPS深度剖析、场发射AES／SAM等功能的分析技术，以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料、黏合剂、涂料聚合物材料等领域中的应用；介绍了现代电子能谱仪中的微聚焦单色器、场发射体、离子枪、电子枪、能量分析器／传输透镜、荷电补偿器、多通道探测器、平行成像系统、平行数据采集、数据处理系统等等。书中将XPS和．AES技术与其他表面分析技术作了比较。书后附有参考文献、中英文电子能谱分析技术名词术语、网络资源等一些有用的信息。 本书既可供学习电子能谱分析技术的高年级本科生和研究生用作教材，也可供从事电子能谱专业人员以及使用电子能谱分析技术的科研技术人员阅读。
目录
目录
1 电子能谱:一些基本概念
1.1 表面分析
1.2 能谱标识方法
1.2.1 谱学家标识方法
1.2.2 X射线标识方法
1.3 X射线光电子能谱(XPS)
1.4 俄歇电子能谱(AES)
1.5 扫描俄歇电子显微镜(SAM)
1.6 电子能谱中的分析深度
1.7 比较XPS和AES/SAM
1.8 表面分析设备
2 电子能谱仪构造
2.1 真空系统
2.2 样品
2.3 X射线源
2.3.1 双阳极X射线源
2.3.2 X射线单色器
2.3.3 荷电补偿
2.4 AES的电子枪
2.4.1 电子源
2.4.2 俄歇电子能谱中电子发射体的比较
2.5 电子能谱分析器
2.5.1 筒镜形分析器
2.5.2 半球形分析器
2.6 探测器
2.6.1 通道电子倍增器
2.6.2 通道板
2.7 小面积XPS
2.7.1 透镜限定小面积XPS
2.7.2 源限定小面积XPS
2.8 XPS成像和面分布成像
2.8.1 串行采集
2.8.2 平行采集
2.9 小面积XPS的横向分辨率
2.10 角分辨XPS34
3 电子能谱:定性和定量诠释
3.1 定性分析
3.1.1 电子能谱中的干扰特征峰
3.1.2 数据采集
3.2 化学态信息
3.2.1 X射线光电子能谱
3.2.2 电子诱导激发俄歇电子能谱
3.2.3 俄歇参数
3.2.4 化学态图
3.2.5 震激伴峰
3.2.6 多重劈裂
3.2.7 等离激元
3.3 定量分析
3.3.1 影响电子能谱定量分析的因素
3 3.2 XPS定量分析
3.3 3 AES定量分析
4 组分深度剖析
4.1 非破坏性深度剖析方法
4.1.1 角分辨电子能谱
4.1.2 分析深度随电子动能的变化
4.2 惰性气体离子刻蚀深度剖析
4.2.1 溅射过程
4.2.2 实验方法
4.2.3 溅射产额和刻蚀速率
4.2.4 影响刻蚀速率的因素
4.2.5 影响深度分辨的因素
4.2.6 校准
4.2.7 离子枪结构
4.3 机械切削
4.3.1 斜面磨角
4.3.2 球形磨坑
4.4 结束语
5 电子能谱在材料科学中的应用
5.1 引言
5.2 冶金学
5.2.1 晶界偏析
5.2.2 金属合金电子结构
5.2.3 表面工程
5.3 腐蚀科学
5.4 陶瓷和催化剂
5.5 微电子和半导体材料
5.5.1 半导体器件表面AES组分面分布成像
5.5.2 半导体材料的深度剖析
5.5.3 超薄层薄膜的ARXPS研究
5.6 聚合物材料
5.7 黏合科学
6 XPS,AES与其他分析技术的比较
6.1 电子显微镜中的X射线分析
6.2 电子显微镜中的电子分析
6.3 表面分析质谱
6.4 离子散射谱
6.5 结束语
名词术语
缩写词表
表面分析方法简介
表面分析术语
因特网上的表面分析资料
表面分析中的文字标准
附录
附录1 俄歇电子能量
附录2 用AIKαX射线获得的结合能表
索引
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1 电子能谱:一些基本概念
1.1 表面分析
1.2 能谱标识方法
1.2.1 谱学家标识方法
1.2.2 X射线标识方法
1.3 X射线光电子能谱(XPS)
1.4 俄歇电子能谱(AES)
1.5 扫描俄歇电子显微镜(SAM)
1.6 电子能谱中的分析深度
1.7 比较XPS和AES/SAM
1.8 表面分析设备
2 电子能谱仪构造
2.1 真空系统
2.2 样品
2.3 X射线源
2.3.1 双阳极X射线源
2.3.2 X射线单色器
2.3.3 荷电补偿
2.4 AES的电子枪
2.4.1 电子源
2.4.2 俄歇电子能谱中电子发射体的比较
2.5 电子能谱分析器
2.5.1 筒镜形分析器
2.5.2 半球形分析器
2.6 探测器
2.6.1 通道电子倍增器
2.6.2 通道板
2.7 小面积XPS
2.7.1 透镜限定小面积XPS
2.7.2 源限定小面积XPS
2.8 XPS成像和面分布成像
2.8.1 串行采集
2.8.2 平行采集
2.9 小面积XPS的横向分辨率
2.10 角分辨XPS34
3 电子能谱:定性和定量诠释
3.1 定性分析
3.1.1 电子能谱中的干扰特征峰
3.1.2 数据采集
3.2 化学态信息
3.2.1 X射线光电子能谱
3.2.2 电子诱导激发俄歇电子能谱
3.2.3 俄歇参数
3.2.4 化学态图
3.2.5 震激伴峰
3.2.6 多重劈裂
3.2.7 等离激元
3.3 定量分析
3.3.1 影响电子能谱定量分析的因素
3 3.2 XPS定量分析
3.3 3 AES定量分析
4 组分深度剖析
4.1 非破坏性深度剖析方法
4.1.1 角分辨电子能谱
4.1.2 分析深度随电子动能的变化
4.2 惰性气体离子刻蚀深度剖析
4.2.1 溅射过程
4.2.2 实验方法
4.2.3 溅射产额和刻蚀速率
4.2.4 影响刻蚀速率的因素
4.2.5 影响深度分辨的因素
4.2.6 校准
4.2.7 离子枪结构
4.3 机械切削
4.3.1 斜面磨角
4.3.2 球形磨坑
4.4 结束语
5 电子能谱在材料科学中的应用
5.1 引言
5.2 冶金学
5.2.1 晶界偏析
5.2.2 金属合金电子结构
5.2.3 表面工程
5.3 腐蚀科学
5.4 陶瓷和催化剂
5.5 微电子和半导体材料
5.5.1 半导体器件表面AES组分面分布成像
5.5.2 半导体材料的深度剖析
5.5.3 超薄层薄膜的ARXPS研究
5.6 聚合物材料
5.7 黏合科学
6 XPS,AES与其他分析技术的比较
6.1 电子显微镜中的X射线分析
6.2 电子显微镜中的电子分析
6.3 表面分析质谱
6.4 离子散射谱
6.5 结束语
名词术语
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表面分析方法简介
表面分析术语
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