Thin solid film materials and preparation technology
作者: 宁兆元[等]编著
出版社:科学出版社,2008
简介: 本书较全面地介绍了有关薄膜材料制备技术的基础知识,总结了近年来
薄膜材料制备领域的新进展,并融入了作者多年来在从事薄膜材料研究中所
取得的成果。全书共10章,第l章主要介绍了薄膜材料的基本概念、特征,
并扼要介绍了薄膜材料的物性和结构的分析方法。第2章和第3章讲述的是有
关薄膜制备技术中涉及的基础知识,包括真空技术和等离子体技术等。第4
章和第5章是本书的重点,着重讨论了制备薄膜材料的物理气相沉积技术和
化学气相沉积技术的基本原理和方法,包括蒸发、溅射、离子束、脉冲激光
和等离子体化学气相沉积技术,以及分子束外延和液相法生长技术等。第6
章讨论了薄膜材料的厚度和沉积速率的检测方法。第7~10章则有选择地介
绍了当前国际上研究的几种热点薄膜材料的制备和检测技术,如超低和超高
介电常数薄膜、发光薄膜、超硬薄膜、巨磁电阻薄膜等,其目的是使读者进
一步了解薄膜材料的广泛应用及其发展方向。
本书可供从事薄膜材料研究的科研工作者参考,也可以作为物理学、材
料科学与工程、电子科学与技术等专业高年级本科生或研究生的参考读物。