Fabrication engineering at the micro-and nanoscale
作者: (美)斯蒂芬 A. 坎贝尔著;严利人,张伟等译
出版社:电子工业出版社,2011
简介: 坎贝尔的这本《微纳尺度制造工程(第三版)》是《微电子制造科学原
理与工程技术》的第三版。《微纳尺度制造工程(第三版)》系统地介绍了
微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本
单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化
、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不
仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。
本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软
光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
《微纳尺度制造工程(第三版)》可作为高等学校微电子专业本科生和
研究生相应课程的教科书或参考书,也可供与集成电路制造工艺技术有关
的专业技术人员学习参考。