Ion Beam Deposition Film Technology and Application
光盘
作者： 刘金声著
出版社：国防工业出版社,2003
简介：《离子束沉积薄膜技术及应用》系统地介绍先进离子束沉积（IBD）薄膜技术及应用。包括IBD薄膜技术基础、离子束溅射沉积（IBSD）薄膜技术研究及应用、双离子束溅射沉积（DIBSD）薄膜和薄膜改性方法、离子束反应溅射沉积（IBRSD）薄膜方法、离子束轰击生长薄膜效应及离子束辅助沉积（IBAD）薄膜方法等内容。
《离子束沉积薄膜技术及应用》总结了作者多年来在该技术领域的研究成果，取材新颖，理论联系实际。书中提供了丰富的研究方法及范例，对普及和推广离子束沉积薄膜技术具有重要知道意义。
《离子束沉积薄膜技术及应用》可供从事近代薄膜科学技术与材料研究人员和工艺师等阅读，也可供理工科大专院校有关专业师生参考。
